全新 Linnik 干涉物鏡

Sensofar 十分高興地宣布推出可選模塊Linnik 干涉物鏡。Linnik 物鏡設計用于獲得位于透明材料深處的表面或很難接觸到的表面的干涉圖像。Linnik 物鏡的光機械設計包含兩種相同的物鏡——一種是用于參考表面的物鏡，另一種是用于需檢測表面的物鏡。

結合兩種明場(chǎng)物鏡提供了各種可能性?？梢允褂贸L(cháng)工作距離（SLWD）物鏡、高數值孔徑物鏡、水浸物鏡或具有傳統干涉儀不具備規格的任何物鏡組。物鏡組可以是兩個(gè)50x 放大倍率的SLWD，用于測量PSI 傾斜表面，例如硅片，45 度斜率也不會(huì )碰觸到物鏡。另外，還可以使用一組20x 放大倍率的EPI，用于獲得由玻璃保護水中所含的蛋白質(zhì)晶體的圖像。

盡管Linnik 物鏡有很多優(yōu)點(diǎn)，但它很難使用，且需要專(zhuān)業(yè)的對準技巧。通常會(huì )通過(guò)干涉濾光片使用長(cháng)相干性光源，如綠色或紅色LED。